淺談氨逃逸形成的原因與控制

隨著社會的發(fā)展，環(huán)保問題越來越重視，NOx的排放標準也提到新的高度，但是脫硝投入以來帶來不少問題，針對氨逃逸高這一問題進行探討和分析，本人主要結合工作中的經歷來探討氨逃逸在運行中的控制方法，以期對鍋爐設備安全和經濟效益的提高有所幫助。

一、概述

C鍋爐設計產汽能力220t/h，產出的9.80MPa（G）、540℃的過熱蒸汽，2014年3月新建聯(lián)合脫硝系統(tǒng)，包括低氮燃燒系統(tǒng)，SNCR和SCR系統(tǒng)，通過SCR后NOx≤100mg/Nm3，氨逃逸≤5ppm，因環(huán)保要求日益嚴格，控制NOx≤65mg/Nm3，造成氨逃逸高于設計指標，嚴重影響鍋爐健康運行，因氨逃逸高，影響電場放電，造成鍋爐輸灰不暢，停爐期間檢查鍋爐空預器有不同程度腐蝕和堵塞。

pH做為基本的污水指標，勢必成為供求的熱點，這對廣大的E-1312 pH電極制造商，比如美國BroadleyJames來說是個重大利好。美國BroadleyJames做為老牌的E-1312 pH電極制造商，必將為中國的環(huán)保事業(yè)帶來可觀的經濟效益。我們美國BroadleyJames生產的E-1312 pH電極經久耐用，質量可靠，測試準確，廣泛應用于各級環(huán)保污水監(jiān)測以及污水處理過程。

二、氨逃逸高的原因

氨逃逸是影響SCR系統(tǒng)運行的一項重要參數(shù)，實際生產過程中通常是多于理論量的氨到達反應器，反應后在煙氣下游多余的氨稱為氨逃逸，氨逃逸是通過單位體積內氨含量來表示的。為了達到環(huán)保要求，往往需要一定過量的氨，所以也對應著會有一個合適的氨逃逸值，該值設計為不大于5ppm，但是往往實際運行中偏大，主要有以下因素：

（1）每只氨噴槍噴氨流量分布不均，煙氣中存在氨水局部分布不均，煙氣流速不均勻，各噴槍出口的噴氨量差異較大，濃度高的地方氨逃逸相對高一些。

（2）煙氣溫度，反應溫度過低，NOx與氨的反應速率降低，會造成NH?的大量逃逸，但是，反應溫度過高，氨又會額外生成NO，所以，NH?存在最佳的反應溫度，在SNCR氨的最佳反應溫度800-1100℃；SCR反應器是以活性成分為WO3和V2O5為催化劑蜂窩裝模塊，還原劑為來自上游SNCR系統(tǒng)的氨逃逸作為還原劑，在催化劑的作用下，氨水與NOx在315~380℃的溫度區(qū)間內反應，生成氮氣和水，達到脫硝的目的，如果溫度過高過低達不到反應效果，勢必增加氨逃逸。

（3）催化劑堵塞，脫硝效率下降，為了保持環(huán)保參數(shù)不超標，會噴更多的氨，這將引起惡性循環(huán)，催化劑局部堵塞、性能老化，導致催化劑各處催化效率不同，為了控制出口參數(shù)，只能增加噴氨量，從而導致局部氨逃逸升高。

（4）霧化風量偏小，噴槍霧化不好，氨水與煙氣不能充分混合，將產生大量的氨逃逸。

（5）氨水濃度，氨水濃度配置，濃度高低無法受控，憑著感覺配置，就目前C鍋爐而言，基本上氨水濃度高，氨水調閥開度過小，霧化不好易自關，導致氨逃逸高，操作難度大。

（6）燃燒波動時，SNCR入口煙氣中的NOX濃度大幅波動，往往會加大噴氨量，機械地實現(xiàn)“達標排放"，過量的氨水，可導致氨逃逸增加，直接危及爐后設備和系統(tǒng)安全運行。

氨逃逸的控制

（1）對于噴氨流量分布不均造成的氨逃逸偏差，可以通過調整氨水噴槍前的球閥控制，在平時操作中盡可能使旋轉噴槍槍頭朝下，增加反應時間，每只槍噴氨分布均勻（其操作看壓力降），NH?與NO充分反應，降低NH?/NO摩爾比，從而降低氨逃逸，達到脫硝效率與運行費用的平衡。

氨逃逸濃度增加還與氨水噴槍噴嘴密切相關，當氨水噴槍噴嘴堵塞時將加劇逃逸氨的產生，應在鍋爐運行過程中檢查氨水噴槍，及時疏通或更換，確保氨水噴槍正常投運。